プラズマ洗浄器・ICソケット等半導体・電子部品の調達：ヤマトマテリアル

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PDC510

【写真】PDC510

ミドルサイズのワークに対応

  • ステージ幅410mm
  • RIE/DPモードの2モードが使用可能です。

【用途】

  • 各種材料の接着性向上、表面改質
    (樹脂、ガラス、金属表面)
  • 半導体、電子部品の組立前処理
    (LSI、LED、MEMS製品、センサー等)
  • 金型、機械部品等の精密部品洗浄
  • メッキ前処理
  • フッ素樹脂を含む樹脂表面の改質

型式PDC510
プラズマモードRIE・DP
高周波出力（Max）500W
ステージ寸法幅410×奥行210mm
チャンバー寸法幅500×奥行290×高さ200mm
処理ガス2系統（酸素、アルゴン）
反応ガス流量制御マスフローコントローラ
真空ポンプロータリー真空ポンプ（約500L/分）
ガス導入口反応ガス2個、パージ1個
外形寸法幅700×奥行700×高さ700mm

PDC610

【写真】PDC610

小型多段式のプラズマ装置

  • 電極を1段、2段、3段と変更可能。
  • 縦型マガジン等の高さのあるワークに対応します。
  • RIE/DPモードの2モードが使用可能です。

【用途】

  • 各種材料の接着性向上、表面改質
    (樹脂、ガラス、金属表面)
  • 半導体、電子部品の組立前処理
    (LSI、LED、MEMS製品、センサー等)
  • 金型、機械部品等の精密部品洗浄
  • メッキ前処理
  • フッ素樹脂を含む樹脂表面の改質

型式PDC610
プラズマモードRIE・DP
高周波出力（Max）600W
ステージ寸法幅250×奥行220mm(1段、2段、3段の可変)
チャンバー寸法幅350×奥行270×高さ300mm
処理ガス2系統（酸素、CF4）
反応ガス流量制御マスフローコントローラ
真空ポンプロータリー真空ポンプ（約345L/分）
ガス導入口反応ガス2個、パージ1個
外形寸法幅600×奥行722×高さ700mm

V1000/V1000X

【写真】V1000

MAX1000Wの高周波出力

  • V1000Xは1500Wへも変更可能
  • 長時間での処理にも対応
  • 本装置をベースに大型ワーク対応可
  • V1000Xは電極2段電極（独立）

【用途】

  • 半導体、電子部品の組立前処理
    (LSI、LED、MEMS製品、センサー等)
  • 各種材料の接着性向上、表面改質
    (樹脂、ガラス、金属表面)
  • レジストの剥離、ウエット処理後の残渣除去
  • 金型、機械部品等の精密部品洗浄
  • メッキ前処理
  • フッ素樹脂を含む樹脂表面の改質

型式V1000 V1000X
プラズマモードRIE・DP RIE・DP
高周波出力（Max）1000W1000W & 1500W
ステージ寸法幅280×奥行280mm幅300×奥行300mm
チャンバー寸法内寸　幅400×奥行400×高さ384mm内寸 幅400Ｘ奥行400Ｘ高さ384mm
処理ガス2系統（酸素、アルゴン）2系統（酸素、アルゴン）
反応ガス流量制御マスフローコントローラマスフローコントローラ
真空ポンプロータリー真空ポンプ（約670L/分）ロータリー真空ポンプ（約670L/分）
ガス導入口反応ガス2個、パージ1個反応ガス2個、パージ1個
外形寸法幅600×奥行800×高さ1600mm幅900Ｘ奥行1000Ｘ高さ2040mm

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