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プラズマ洗浄器・ICソケット等半導体・電子部品の調達：ヤマトマテリアル
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- 発振器とチャンバー部を一体化
- 研究開発用途における各種アッシング処理や高分子材料の表面改質処理に最適
【用途】
- フォトレジスト除去
- 界面活性処理
- ウエハ、ガラス基板への対応
| 型式 | PR510 |
|---|---|
| プラズマモード | DP方式バレルタイプ |
| 高周波出力（Max） | 500W |
| ステージ寸法 | ― |
| チャンバー寸法 | 径215φ×奥行305mm |
| 処理ガス | 2系統（酸素、アルゴン） |
| 反応ガス流量制御 | マスフローコントローラ |
| 真空ポンプ | 別途ご用意ください |
| ガス導入口 | 反応ガス２個、パージ１個 |
| 外形寸法 | 幅438×奥行520×高さ760mm |
- Φ300石英チャンバー
- ハロゲンヒーティング(オプション)にてフォトレジスト除去に最適です。
- 量産用装置としてもお使い頂ける安全仕様
- ドライポンプを標準装備
【用途】
- 有機物、油分の除去
- 酸化膜、ナイトライドエッチング
- 各種材料の表面改質(親水化)
- 表面還元処理
| 型式 | PB500D |
|---|---|
| プラズマモード | DP |
| 高周波出力（Max） | 500W |
| ステージ寸法 | ― |
| チャンバー寸法 | 径300φ×奥行400mm |
| 処理ガス | 2系統（酸素、CF4） |
| 反応ガス流量制御 | マスフローコントローラ |
| 真空ポンプ | ドライポンプ(樫山工業製) |
| ガス導入口 | 反応ガス２個、パージ１個 |
| 外形寸法 | 幅600×奥行900×高さ1400mm |
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